|
光學鍍膜設備常見的幾種真空鍍膜技術優缺點1. 熱蒸發鍍膜技術 優點：鍍層均勻，質量高；能夠制備非常薄的膜（如納米級）；適用于大塊面積的鍍膜。 缺點：因為需要高溫真空環境，易使樣品變形、氧化、揮發等，影響樣品質量；不能制備復雜形狀的薄膜。 2. 磁控濺射鍍膜技術 優點：制備質量高，膜層均勻；能夠制備多種材料，包括非晶態材料和混合材料；可以制備大面積薄膜。 缺點：設備和操作比較復雜，維護成本較高；需要高電壓和高電流，容易損壞樣品表面；不能制備非常薄的膜（如納米級）。 3. 離子束噴涂鍍膜技術 優點：膜層致密，具有很高的附著力；能夠制備非常薄的膜（如納米級）；可以在較低溫度下進行。 缺點：設備成本高，維護成本高；生產效率低；不能制備大面積薄膜。 4. 電弧放電鍍膜技術 優點：能夠制備高強度、高硬度的薄膜；具有較好的耐磨性和防腐性。 缺點：設備和操作比較復雜，維護成本高；不能制備非常薄的膜（如納米級）；膜層厚度不夠均勻，易出現局部薄厚差異。 |
